GB/T14849.4-2014工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

标准简介：GB/T14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。

标准号：GB/T 14849.4-2014

标准名称：工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of impurity contents—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2014-12-05

实施日期：2015-08-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属化学分析方法>>H12轻金属及其合金分析方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属>>77.120.10铝和铝合金

替代以下标准：替代GB/T 14849.4-2008

起草单位：昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)

发布单位：国家质量监督检验检疫.

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